技術紹介

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半導体 - ウェハ/チップ

生産設備紹介

主要なパワーデバイスを生産する装置をそろえています。

1.写真製版
ポジレジストコーター・デベロッパー
ネガレジストコーター・デベロッパー
ポリイミドコーター
プロジェクションアライナー
ステッパーはポジレジストを用いてファイン(微細)パターンを形成します。 ネガレジストラインはラフ(粗い)パターンですが、強度なエッチング処理に用います。

2.拡散炉
パイロジェニック炉
ウェットバブラー炉
POCl3炉
ドライブ炉
すべてソフトローディングタイプでローディング時には炉心管とウエハボートの接触がありません。

3.CVD
常圧CVD CVD装置はウエハ上に保護膜等を形成する装置です。

4.ドライエッチ
酸素プラズマアッシャー

5.ウエットエッチ/洗浄
SC-1/2洗浄装置 三社社内製です。枚葉式洗浄装置は弊社本社電源機器本部で取り扱っています。

6.評価装置
FTIR
エリプソメトリ
ナノスペック
拡がり抵抗測定器
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シリーズ
電圧
電流
パッケージ

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